CI546 3BSE012545R1 允许穿过非常厚的 PMMA 层进行曝光

Description

CI546 3BSE012545R1

CI546 3BSE012545R1是一种非硅技术，需要使用同步加速器产生的 X 射线辐射。基本过程如图 11 所示，首先将 X 射线辐射敏感的 PMMA 浇铸到合适的基材上。使用特殊的 X 射线掩模，利用 X 射线对 PMMA 层进行选择性曝光。然后开发 PMMA，并将其定义为极其光滑且几乎完全垂直的侧壁。此外，X 射线辐射进入 PMMA 层的穿透深度相当深，并且允许穿过非常厚的 PMMA 层进行曝光，高达并超过 1 毫米。开发完成后，图案化的 PMMA 作为聚合物模具，被放入电镀槽中，镍被镀到 PMMA 的开放区域。然后去除 PMMA，从而留下金属微观结构

CI546 3BSE012545R1需要特殊的掩模和同步加速器（X射线）辐射源进行曝光，因此该过程的成本相对昂贵。降低用此工艺制造的微机械零件成本的工艺变体是将制造的金属零件（步骤 5）重新用作工具插件，将工具的形状压印到聚合物层中（步骤 3），然后将金属电镀到聚合物模具中（步骤 4）并移除聚合物模具（步骤 5）。显然，这一系列步骤消除了每次制造零件时对同步加速器辐射源的需要，从而显着降低了工艺成本。该工艺的尺寸控制相当好，并且刀具刀片在磨损之前可以多次使用。